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余政儲出【2021】20號地塊項目施工工程

本工程位于杭州市余杭區未來科技城，北至永興路，南至愛橙街，東至思凱路，西至景興路。項目總用地面積約24743m2；總建筑面積約209212m2，其中地上建筑面積約143264 m2，地下建筑面積約65948 m2。擬建物主要由2幢32F（最大高度規劃H=150.0m）的辦公樓、7F裙樓（高度H=32.2m）等附屬建筑組成，場地正負0.000為5.20m。設三層整體地下室，最大開挖深度約16m，項目工程造價為5377萬元。工程樁采用鉆孔灌注樁，Φ800鉆孔樁共1389根；圍護樁采用鉆孔灌注樁及水泥攪拌樁，其中Φ1000鉆孔樁共209根，Φ1100鉆孔樁共175根、Φ800立柱樁共233根，Φ850五軸水泥攪拌樁共255幅。開挖深度為16m。